半導體行業產生的工業廢氣該怎么處理？

半導體行業是一個高度精密和技術密集的行業，其生產過程中會產生大量的工業廢氣，包括氧化物、氯化物、氟化物、氮氧化物、有機物等。這些廢氣如果直接排放到大氣中，將會對環境和人類健康造成嚴重的危害。因此，半導體行業必須采取有效的措施去進行工業廢氣處理工作。

下面是一些常見的半導體行業工業廢氣處理方法：

1、活性炭吸附法

活性炭吸附法主要原理就是利用多孔固體吸附劑（活性碳、硅膠、分子篩等）來處理有機廢氣，這樣就能夠通過化學鍵力或者是分子引力充分吸附有害成分，并且將其吸附在吸附劑的表面，從而達到凈化有機廢氣的目的。活性炭吸附法目前主要應用于大風量、低濃度（≤800mg/m3）、無顆粒物、無粘性物、常溫的低濃度有機廢氣凈化處理。　

活性炭凈化率高（活性炭吸附可達到90%以上），實用遍及，操縱簡單，投資低。在吸附飽和以后需要更換新的活性炭，更換活性炭需要費用，替換下來的飽和以后的活性炭也是需要找專業危廢公司進行危廢處理，運營費用高。

活性炭吸附催化燃燒設備

2、燃燒法

燃燒法只在揮發性有機物在高溫及空氣充足的條件下進行完全燃燒，分解為CO2和H2O。燃燒法適用于各類有機廢氣，可以分為直接燃燒、熱力燃燒和催化燃燒。

排放濃度大于5000mg/m3 的高濃度廢氣一般采用直接燃燒法，該方法將VOCs廢氣作為燃料進行燃燒，燃燒溫度一般控制在1100℃，處理效率高，可以達到95％一99％。

當然，半導體行業的工業廢氣處理方法還需要根據實際情況選擇合適的，同時需要遵守當地的環保法規和標準。